2015年4月13日星期一
金相顯微鏡-電子顯微鏡 鎖定奈米製程檢測
測試設備大廠測試(Advant顯微鏡est)推出多功能整合量測掃描式電子系統，因應1X奈米製程光罩缺陷檢測需求。
測試指出，行動裝置終端市場需求強勁，半導體產業在短期內將進入1X奈米製程量產階段，業界對於超小尺寸元無線電對講機件高穩定性、高精準度生物顯微鏡圖樣缺陷檢測能力的需求，將明顯提高。
在功能上，測試表示，電子顯微鏡新品，擁有圖樣缺陷檢金相顯微鏡測能力，可支援業界將面臨的1X奈米製程，除應用在標視訊會議準半導體微影光罩檢測，也可針對EUV光罩、NIL母模等下一立體顯微鏡代微影基板提供量測效能。
電子顯微鏡新品的專利運算技術和多重偵測器配置設定，可針對圖樣寬度、高度與側邊壁面角度，進行即時3D觀察量測與識別量測。
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